据科技媒体《信息报》援引消息人士报道称，一家总部位于上海的中国公司已开始限量生产沉浸式深紫外光刻机。这家公司计划今年生产5套系统以供交付，预计到2027年生产约20台沉浸式深紫外光刻机。

虽然这个数字可能看起来并不大，但它代表了中国在开发本土深紫外光刻机生产方面作出的重大努力，预计将能减少对荷兰芯片设备巨头阿斯麦（ASML）等第三方供应商的依赖。这家上海公司计划首先向中芯国际、长鑫存储和华虹交付，并将这些机器集成到它们的生产流程中。

该消息发布后，阿斯麦股价下跌超过7%，创下自6月8日以来的最大单日跌幅。阿斯麦拒绝回应置评请求。该报道也影响了全球芯片设备供应链相关企业的股价。

由于事关敏感，相关人士并未透露这家国有背景的制造商的身份。这项突破最终可能会挑战阿斯麦在中国的市场地位，但上述系统在性能和可靠性方面仍有不足，在量产前还需要进一步测试，因此目前阿斯麦的优势依然存在。初期产量将受到限制，今年预计生产约5台沉浸式深紫外光刻机，到2027年预计生产约20台。

沉浸式深紫外光刻机用于将电路图案印制在硅片上；在相关限制措施切断了中方对极紫外光刻机（EUV）的获取途径后，前者便成了中国芯片制造商所能使用的最先进光刻工具。

中国也在研发国产极紫外光刻机，尽管目前仍处于原型机阶段。鉴于美国正考虑协调盟国对向中国出口光刻设备及提供相关维护服务实施更严格的限制，本土生产的沉浸式深紫外光刻机有望为中国芯片制造商提供关键设备的替代来源。

2023年7月，在上海举行的世界人工智能大会上，一名工作人员正在检查中国超级计算机制造商展位上的显示屏，屏幕上展示着一枚计算机芯片以及“自主”二字。 © 美联社图片

中科技突破致美国芯片股重挫 华尔街股市应声下跌

中国 – 周一，受一项可能加速中国芯片产业发展的技术突破报道的影响，几家美国主要半导体公司在纽约证券交易所的股价下跌。据《The Information》报道，中国上海宇量昇科技有限公司已开始量产深紫外（EUV）光刻机。这项技术此前由荷兰公司阿斯麦控股（ASML）独家掌握。

EUV光刻工艺利用紫外光在硅片上蚀刻出微小电路。它允许在指甲盖大小的芯片上集成数百亿个晶体管，从而能够生产出性能极其强大的芯片。法新社联系上海宇量昇科技有限公司，但该公司及其关联公司SiCarrier和华为均未立即作出回应。

EUV光刻机的量产将使中国摆脱对ASML的依赖。ASML的产品在欧盟以外地区受到出口限制。

中国芯片产业因此可以加快处理器研发和生产的步伐，使其更接近目前被认为领先的美国顶尖厂商。

产能的提升将使中国主要的人工智能（AI）厂商能够进一步缩小其模型与美国领先厂商模型之间的差距。

下午3点55分左右，AMD股价下跌8.21%，英伟达（Nvidia）下跌4.89%，美光（Micron）下跌5.24%，英特尔（Intel）下跌3.74%。

《金融时报》曾报道，宇量昇科技有限公司于2025年9月进行了初步测试，但大规模量产的启动时间比专家预期的要早。