正在中国上海举行的中国国际工业博览会上，一家上海新创厂商展出声称是7奈米以下最先进制程芯片所需极紫外光（EUV）微影设备样机。

不过，这个样机外型粗糙简陋，更离谱的是没有任何数据资料，现场人员坦承，就算是一切顺利的话，仍需要3到5年才能量产。中国网友质疑，这是新创公司涉嫌募资发爱国财。

中国遭到美国科技封锁，其中最需要的就是晶圆制造的ASML极紫外（EUV）曝光机。中国以举国体制全力研发，依旧卡关困难重重。其中，美国阻止荷兰艾司摩尔（ASML）向中国出口EUV微影设备后，中国自行开发深紫外光（DUV）微影设备，以提升先进制程竞争力。

中央社报道，而生产最先进芯片所需的EUV，目前仍是由艾司摩尔垄断市场。因此在传出中国研发自制生产EUV后，研发进度一直是外界关心的话题。

不接受访问

在工博会亮相的这台大型EUV样机，未放在与积体电路相关的热门展馆，而是低调置于创新科技馆内上海市专属展区中。面对媒体记者询问细节，现场人员一概以不接受访问拒绝。

据研制厂商朗道科技在展会现场提供的书面简介，朗道科技在2024年设立朗道光源专案，聚焦半导体制造核心技术EUV微影设备光源。

正在中国上海举行的中国国际工业博览会上，一家上海新创厂商低调展出“声称”是7奈米以下最先进制程芯片所需极紫外光（EUV）微影设备样机，外型粗糙简陋。中央社

相较于对产品解说的低调，由于创新科技馆旁就是中国各大学院校展示研究成果的展馆，一旦有年轻学生停驻，工作人员会立即递上包含全职和实习职位的征才文宣。工作人员说，“我们是新公司，非常需要人才”。

ASML极紫外（EUV）曝光机