| 牛皮吹破!揭中国存储器“一哥”遭遇瓶颈 | |
| www.wforum.com | 2026-02-12 00:10:59 LTN | 0条评论 | 查看/发表评论 |
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由于内存短缺、价格狂飙,传出中国DRAM龙头长鑫存储(CXMT)正大举扩厂,趁机抢商机。 不过,韩媒最新披露,长鑫存储去年第四季已达到产能高峰,目前正面临极限,原因是美国出口管制收紧,限制长鑫存储的产能扩张。 另外,长鑫存储的DRAM良率仍是瓶颈,实际出货量可能低于预期。 韩媒《Chosun Biz》12日报道,长鑫存储的产能已于去年第四季达到峰值,目前面临产能瓶颈。 尽管中国政府全力推动半导体设备本土化,外界认为,美国对先进半导体设备的出口规定,将限制其新增产能。 根据市场调查公司 Omdia 于 12 日获得的数据,长鑫存储月平均晶圆产量已达到约 24 万片的最高点。 业内人士预测,自2024年以来持续扩大产能的长鑫存储,今年的产量将遇到瓶颈。 长鑫存储目前的DRAM产能估计约为业界第二大厂商SK海力士的一半,略高于三星电子的三分之一。 去年,三星电子的DRAM年产能约760万片晶圆,SK海力士为597万片,美光为360万片。 去年,长鑫存储的晶圆产量翻倍,扩大其市占,但今年其成长速度似乎有所放缓。 LS Securities 研究员车勇浩(音译)表示,美国出口管制收紧,限制长鑫存储的产能扩张。 北京深知此事,目前中国大基金正集中于半导体设备。 他补充说,如果中国明年成功让设备本地化,产能扩建可能从2027年恢复,包括长鑫存储新上海晶圆厂。 然而,长鑫存储DRAM产量的良率仍是瓶颈。 尽管该公司大力投资扩厂,实际产量仍难以达到预期目标。 原因在于良率低导致产能与实际产量之间存在差距。 由于产品缺陷等问题,实际出货量可能低于预期。 一位半导体行业内部人士指出,与NAND闪存不同,由于DRAM设计和工艺的复杂性,长鑫存储需要相当长的时间,才能推出类似于三星电子或SK海力士的先进制程。 他补充,随着工艺进展到低10纳米,对EUV曝光系统等尖端设备的需求增加,但美国的限制使得(中国)取得这些设备变得很困难。 |
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