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“中国刻蚀机之父”弃美籍恢复中国籍 套现近1亿
www.wforum.com | 2026-01-09 17:34:53  上海证券报 | 0条评论 | 查看/发表评论

1月8日,半导体龙头中微公司发布公告称,公司创始人、董事长兼总经理尹志尧计划自公告披露之日起15个交易日后的3个月内,通过集中竞价方式减持公司股份不超过29万股,占公司总股本比例约为0.046%。

公告显示,被誉为“中国刻蚀机之父”的尹志尧减持股份的原因是:“因本人已从外籍恢复为中国籍,为依法办理相关税务的需要。”

截至1月9日收盘,中微公司股价报¥336.68元/股,总市值为¥2108亿元。按此收盘价推算,尹志尧拟减持的约29万股股票市值约为人民币¥9764万元,拟套现近¥1亿元。

公开资料显示,尹志尧,生于1944年,中国国籍,拥有中国科学技术大学学士学位及加州大学洛杉矶分校博士学位。

尹志尧的职业生涯始于1984年,先后在硅谷多家顶尖半导体企业积累了丰富经验。1984年至1986年,他在英特尔中心技术开发部担任工艺工程师;1986年至1991年,在泛林半导体历任资深工程师及研发部资深经理;1991年至2004年,供职于应用材料公司,期间先后担任等离子体刻蚀设备产品总部首席技术官、总公司副总裁兼事业群总经理,以及亚洲总部首席技术官。2004年,尹志尧回国创立中微公司,并一直担任董事长、总经理及核心技术负责人至今。

每日经济新闻此前报道,中微公司在2022年年报中仍明确标注尹志尧为美国公民;2023年年报未披露其国籍信息;直至2024年年报,才正式确认其已恢复中国国籍。

另据上海证券报报道,近十年间,尹志尧带领团队持续突破技术壁垒,半导体设备领域的全国首台套捷报频传:2015年,率先提出“皮米级”加工精度概念,开发出世界先进水平的CCP和ICP等离子体刻蚀设备;2018年,自主知识产权刻蚀机进入客户5纳米产线;2010年—2025年,推动开发了MOCVD\LPCVD\ALD\EPI\PEVCD等一系列国际领先的薄膜设备;2025年,ICP双反应台刻蚀机精度达0.1nm(纳米),技术达到全球先进水平。

中微公司最新披露的三季报显示,2025年前三季度,公司保持强劲发展势头,实现营业收入80.63亿元,同比增长46.40%;实现归属于上市公司股东净利润¥12.11亿元,同比增长32.66%。

中微公司在三季报中表示,根据规划,未来五到十年,其对集成电路关键设备领域的覆盖度将提升至60%,将携手行业上下游的合作伙伴,实现高速、稳定、健康和安全的高质量发展,力争尽早在规模上和竞争力上成为国际一流的半导体设备公司。

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